OPTICAL ASSEMBLY WITH SUPPRESSION OF DEGRADATION

• Main Authors: SCHMIDT, STEFAN-WOLFGANG, WALTER, MARKUS, EHM, DIRK HEINRICH
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.01.2013
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES; HOLOGRAPHY; IRRADIATION DEVICES; MATERIALS THEREFOR; NUCLEAR ENGINEERING; NUCLEAR PHYSICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR

The invention relates to an optical assembly, in particular a projection exposure apparatus for EUV lithography, comprising: a beam generating system for generating radiation (6) at an operating wavelength,at least one optical element (13, 14) which is subjected to the radiation (6) and is arranged in a residual gas atmosphere, and a feed device for feeding at least one gaseous constituent into the residual gas atmosphere in order to suppress a degradation of the surface (14a) of the optical element (14) that is induced by the radiation, wherein either a beam diameter (d) of the radiation (6) at the surface of the optical element, in particular at the surfaces of all optical elements of the optical assembly, lies above a threshold value (dc ) so that a suppression of the degradation by the gaseous constituent is effective, or the beam diameter (d) at the surface (14a) of the optical element (14) lies below the threshold value (dc) so that a reduction of the effectiveness of the suppression of degradation occurs,and at least one further device (25, 27) for the improved suppression of the degradation of the surface (14a) is assigned to the optical element (14).The invention also relates to an associated method for operating an optical assembly. La présente invention concerne un ensemble optique, en particulier un appareil d'exposition de projection pour une lithographie dans l'UV extrême, comprenant : un système de génération de faisceau permettant de générer un rayonnement (6) à une longueur d'onde de fonctionnement, au moins un élément optique (13, 14) qui est soumis au rayonnement (6) et est disposé dans une atmosphère gazeuse résiduelle, et un dispositif d'alimentation permettant d'introduire au moins un constituant gazeux dans l'atmosphère gazeuse résiduelle dans le but de supprimer une dégradation de la surface (14a) de l'élément optique (14) qui est induite par le rayonnement. Soit un diamètre de faisceau (d) du rayonnement (6) à la surface de l'élément optique, en particulier sur les surfaces de tous les éléments optiques de l'ensemble optique, est supérieur à une valeur seuil (dc) de sorte qu'une suppression de la dégradation par le constituant gazeux soit effective, soit le diamètre de faisceau (d) à la surface (14a) de l'élément optique (14) est inférieure à la valeur seuil (dc) de sorte qu'une réduction de l'efficacité de la suppression de la dégradation se produise, et au moins un dispositif supplémentaire (25, 27) pour la suppression améliorée de la dégradation de la surface (14a) est attribué à l'élément optique (14). L'invention concerne également un procédé associé permettant d'utiliser un ensemble optique.