ELECTROCONDUCTIVE MEMBER, PROCESS CARTRIDGE, AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE

• Main Authors: YAMADA, SATORU, TSURU, SEIJI, YAMAUCHI, KAZUHIRO, MURANAKA, NORIFUMI, MURANAKA, YUKA
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.10.2012
• Subjects: CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; HOLOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY; PHOTOGRAPHY; PHYSICS; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS

Provided is an electroconductive member for electrophotography which is less apt to increase in electrical resistance even when a high voltage is applied thereto for a long period. The electroconductive member for electrophotography comprises an electroconductive substrate and an electroconductive elastic layer, and is characterized in that the elastic layer comprises a block copolymer of the A-B-A type which is configured of non-ion-conductive blocks (blocks A) and an ion-conductive block having an ion-exchange group (block B), the block copolymer forming a microphase separation structure, in which the blocks A are of any structure selected from the group consisting of a spherical structure, a cylindrical structure, and a co-continuous structure, and the block B is a matrix for the block-A structure. L'invention concerne un élément électroconducteur pour l'électrophotographie dont la résistance électrique est moins susceptible d'augmenter, même quand une tension élevée lui est appliquée sur une longue période. Ledit élément électroconducteur comprend un substrat électroconducteur et une couche élastique électroconductrice, et se caractérise en ce que la couche élastique comprend un copolymère séquencé du type A-B-A qui est constitué de blocs non conducteurs ioniques (blocs A) et d'un bloc conducteur ionique portant un groupe d'échange d'ions (bloc B). Le copolymère séquencé forme une structure de séparation des microphases dans laquelle les blocs A adoptent n'importe quelle structure choisie dans le groupe constitué par une structure sphérique, une structure cylindrique et une structure co-continue, et le bloc B sert de matrice pour la structure des blocs A.