BALANCING RF BRIDGE ASSEMBLY

• Main Authors: KIM, SAM H, PARK, BEOM SOO, BAEK, JONGHOON
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 20.10.2011
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Embodiments disclosed herein generally relate to a PECVD apparatus. When the RF power source is coupled to the electrode at multiple locations, the current and voltage may be different at the multiple locations. In order to ensure that both the current and voltage are substantially identical at the multiple locations, an RF bridge assembly may be coupled between the multiple locations at a location just before connection to the electrode. The RF bridge assembly substantially equalizes the voltage distribution and current distribution between multiple locations. Therefore, a substantially identical current and voltage is applied to the electrode at the multiple locations. Les modes de réalisation selon la présente invention ont en règle générale trait à un appareil de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Lorsque le bloc d'alimentation RF est couplé à l'électrode à de multiples emplacements, le courant et la tension peuvent être différents aux multiples emplacements. Afin de garantir que le courant et la tension sont tous deux sensiblement identiques aux multiples emplacements, un ensemble pont RF peut être couplé entre les multiples emplacements à un emplacement se trouvant juste avant la connexion à l'électrode. L'ensemble pont RF égalise sensiblement la répartition de la tension ainsi que la répartition du courant entre les multiples emplacements. Par conséquent, un courant et une tension sensiblement identiques sont appliqués à l'électrode aux multiples emplacements.