APPARATUS, SYSTEM, AND METHOD FOR ROBOTIC MICROSURGERY
A system for microsurgery includes a first assembly and a second assembly, each including: (1) a planar remote center of motion (RCM) device configured to constrain motion of a surgical instrument attached to the planar RCM device such that an axis of the surgical instrument passes through the RCM w...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
17.11.2011
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Summary: | A system for microsurgery includes a first assembly and a second assembly, each including: (1) a planar remote center of motion (RCM) device configured to constrain motion of a surgical instrument attached to the planar RCM device such that an axis of the surgical instrument passes through the RCM while remaining in a planar region defined based on a rotational orientation of the planar RCM device; and (2) a rotational device attached to the planar RCM device and configured such that an axis of rotation of the rotational device passes through the remote center of motion. The rotational orientation of the planar RCM device is defined about the axis of rotation. The first assembly and the second assembly are configured to be positioned such that a distance between the remote centers of motion of the first assembly and the second assembly is no greater than two centimeters.
L'invention concerne un système pour microchirurgie incluant un premier ensemble et un second ensemble, incluant chacun : (1) un dispositif de centre de mouvement déporté (RCM) plan conçu pour contraindre le mouvement de l'instrument chirurgical attaché au dispositif RCM plan de sorte qu'un axe de l'instrument chirurgical passe à travers le RCM tout en demeurant dans une région plane définie d'après une orientation de rotation du dispositif RCM plan; et (2) un dispositif de rotation attaché au dispositif RCM plan et conçu de sorte qu'un axe de rotation du dispositif de rotation passe à travers le centre de mouvement déporté. L'orientation de rotation du dispositif RCM plan est définie autour de l'axe de rotation. Le premier ensemble et le second ensemble sont conçus pour être positionnés de sorte qu'une distance entre les centres de mouvement déportés du premier ensemble et du second ensemble ne soit pas supérieure à deux centimètres. |
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Bibliography: | Application Number: WO2011US21405 |