MANUFACTURING METHOD OF PLANAR OPTICAL WAVEGUIDE DEVICE WITH GRATING STRUCTURE

• Main Authors: GOI, KAZUHIRO, YU, MINGBIN, OGAWA, KENSUKE, TEO, HWEE, GEE, TAN, YONG, TSONG, GUAN, NING, SAKUMA, KEN, LO, GUO-QIANG
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 03.03.2011
• Subjects: MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICS; SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; TRANSPORTING

A method for manufacturing a planar optical waveguide device including a core of which a top face is provided with a groove section filled with a groove section filler made of a low refractive index material having a refractive index lower than that of the core, the method including; a first high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer; a low refractive index material layer forming step of forming a low refractive index material layer made of the low refractive index material on the high refractive index material layer; a groove section filler forming step of forming the groove section filler by trimming both lateral portions of the low refractive index material layer; and a second high refractive index material layer forming step of forming a high refractive index material layer so as to fill the both sides of the lateral portions of the groove section filler. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif de guide d'ondes optique plan comprenant un noyau dont une face supérieure est dotée d'une section de rainure remplie d'une charge de section de rainure constituée d'un matériau à faible indice de réfraction ayant un indice de réfraction inférieur à celui du noyau, le procédé comprenant : une première étape de formation de couche de matériau à indice de réfraction élevé consistant à former une couche de matériau à indice de réfraction élevé ; une étape de formation de couche de matériau à faible indice de réfraction consistant à former une couche de matériau à faible indice de réfraction fabriquée à partir du matériau à faible indice de réfraction sur la couche de matériau à indice de réfraction élevé ; une étape de formation de charge de section de rainure consistant à former la charge de section de rainure en rognant les deux parties latérales de la couche de matériau à faible indice de réfraction ; et une seconde étape de formation de couche de matériau à indice de réfraction élevé consistant à former une couche de matériau à indice de réfraction élevé de manière à remplir les deux côtés des parties latérales de la charge de section de rainure.