ELECTRIC FIELD-GUIDED PARTICLE ACCELERATOR, METHOD, AND APPLICATIONS

• Main Authors: LAL, AMIT, SHI, YUE
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 26.08.2010
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FUSION REACTORS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; NUCLEAR ENGINEERING; NUCLEAR PHYSICS; PHYSICS; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGYGENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS; TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINSTCLIMATE CHANGE

A charged particle accelerator having a curvilinear beam trajectory maintained solely by a laterally directed, constant electric field; requiring no magnetic field. A method for controlling the trajectory of a charged particle in an accelerator by applying only a constant electric field for beam trajectory control. Curvilinear steering electrodes held at a constant potential create the beam path. A method for making a chip-scale charged particle accelerator involves integrated circuit-based processes and materials. A particle accelerator that can generate 110 KeV may a footprint less than about 1 cm2. L'invention porte sur un accélérateur de particules chargées ayant une trajectoire de faisceau curviligne maintenue uniquement par un champ électrique constant et dirigé latéralement ; ne nécessitant pas de champ magnétique. L'invention porte sur un procédé pour commander la trajectoire d'une particule chargée dans un accélérateur par application uniquement d'un champ électrique constant pour commander la trajectoire de faisceau. Des électrodes de direction curvilignes maintenues à un potentiel constant créent le trajet du faisceau. L'invention porte également sur un procédé pour réaliser un accélérateur de particules chargées à l'échelle d'une puce, le procédé mettant en jeu des procédés et des matériaux à base de circuit intégré. L'invention porte également sur un accélérateur de particules qui peut générer 110 KeV et qui peut avoir une empreinte inférieure à environ 1 cm².