METHODS FOR MODEL-BASED PROCESS SIMULATION

• Main Authors: SHAO, WENJIN, YE, JUN, KOONMEN, JIM, GOOSSENS, RONALD, CAO, YU
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 10.12.2009
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Lithography simulation using a differential model. The differential model describes differences in the imaging characteristics of two scanners related to tunable and non-tunable scanner settings. A model for one of the two scanners is derived by using the model of the other scanner and the differential model. Similarly, a sensitivity model expresses the differences in the imaging characteristics of one scanner related to different scanner settings. Additionally, methods are provided for calibrating the differential model and the sensitivity model by comparison with printing results. L'invention concerne une simulation lithographique utilisant un modèle différentiel. Ledit modèle différentiel décrit les caractéristiques d'imagerie de deux scanners correspondant à des réglages de scanner accordable et non-accordable. On dérive un modèle pour l'un des deux scanners par utilisation du modèle de l'autre scanner et du modèle différentiel. De la même manière, un modèle de sensibilité exprime les différences dans des systèmes et des procédés destinés à une simulation de processus. Les caractéristiques d'imagerie du scanner associé aux différents réglages de scanner. L'invention concerne également des procédés pour étalonner le modèle différentiel et le modèle de sensibilité par comparaison des résultats imprimés.