METHODS USING BLOCK COPOLYMER SELF-ASSEMBLY FOR SUB-LITHOGRAPHIC PATTERNING - MILLWARD, DAN, B (2008)
Block copolymers can be self-assembled and used in methods as described herein for sub-lithographic patterning, for example. The block copolymers can be diblock copolymers, triblock copolymers, multiblock copolymers, or combinations thereof. Such methods can be useful for making devices that include, for example, sub-lithographic conductive lines. L'invention concerne des copolymères blocs qui peuvent être auto-assemblés et utilisés dans des procédés tels que décrits ici pour la réalisation d'un motif sous-lithographique, par exemple. Les copolymères blocs peuvent être des copolymères diblocs, des copolymères triblocs, des copolymères multiblocs, ou des combinaisons de ceux-ci. De tels procédés peuvent être utiles pour réaliser des dispositifs qui comprennent par exemple des lignes conductrices sous-lithographiques.