MATERIAL FOR PATTERN FORMATION, APPARATUS FOR PATTERN FORMATION, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION

• Main Authors: KAMIKAWA, HIROSHI, IKEDA, KIMI
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.12.2006
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; PRINTED CIRCUITS

This invention provides a material for pattern formation, which, when a highly transparent material is used as a support for the formation of a pattern like a solder resist, can realize a good resist face shape, a higher-definition pattern, and a suitable blue or green color, and an apparatus for pattern formation, comprising the material for pattern formation, and a method for pattern formation using the material for pattern formation. The material for pattern formation is characterized in that the material comprises a support and a photosensitive layer provided on the support, the photosensitive layer is formed of a photosensitive composition comprising a binder, a filler, a polymerizable compound, a heat crosslinking agent, a photopolymerization initiator, and a colorant, the thickness of the photosensitive layer in its part to be exposed remains unchanged after the exposure and development, the minimum energy of light used in the exposure is 0.1 to 200 mJ/cm2, the haze value of the photosensitive layer at the exposure wavelength is 0.1 to 40%, and the pattern formed through the exposure and development is blue to green. La présente invention concerne un matériau de formation de motif, qui, lorsque l'on utilise un matériau extrêmement transparent comme support pour la formation d'un motif comme un résist de brasage, peut réaliser une bonne forme de face de résist, un motif de définition supérieure et une couleur bleue ou verte adéquate, et un appareil de formation de motif, comprenant le matériau de formation de motif, et un procédé de formation de motif utilisant le matériau de formation de motif. Le matériau de formation de motif est caractérisé en ce que le matériau comprend un support et une couche photosensible disposée sur le support, la couche photosensible est formée d'une composition photosensible comprenant un liant, une matière de remplissage, un composé polymérisable, un agent de réticulation thermique, un initiateur de photopolymérisation et un colorant, l'épaisseur de la couche photosensible dans sa partie à exposer reste inchangée après l'exposition et le développement, l'énergie minimale de lumière utilisée dans l'exposition est comprise entre 0,1 et 200 mJ/cm2, la valeur de voile de la couche photosensible à la longueur d'onde d'exposition est comprise entre 0,1 et 40%, et le motif formé par l'exposition et le développement va du bleu au vert.