SYSTEM AND METHOD FOR REMOVING CONTAMINANTS

The invention provides a system and method comprising an apparatus for removing contaminants from a gas in a semiconductor processing device, which can include a filter unit having at least two parallel filter stages located therein. The filter stages are designed to remove a least a portion of the...

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Main Authors KISHKOVICH, OLEG, P, SERGI, JOHN, E, GAUDREAU, JOHN, GOODWIN, WILLIAM, KINKEAD, DEVON, A
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 10.08.2006
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Summary:The invention provides a system and method comprising an apparatus for removing contaminants from a gas in a semiconductor processing device, which can include a filter unit having at least two parallel filter stages located therein. The filter stages are designed to remove a least a portion of the contaminants present in the gas flowing through them. The apparatus can also include a flow controller for distributing the gas flow among the filter stages. In one embodiment, the controller may consist of a diffuser plate. The invention also provides a sampling tube orifice for gas flow control in a system or method of the invention. In another embodiment, an apparatus for removing contaminants from a gas in a clean room comprises a filter unit having at least two parallel filter stages, which are used to remove a portion of the contaminants in the gas as it passes through the apparatus. L'invention concerne un système et un procédé comprenant un dispositif permettant d'éliminer les contaminants d'un gaz dans un dispositif de traitement de semi-conducteurs. Le dispositif comprend une unité filtre contenant au moins deux étages de filtres parallèles. Les étages de filtres sont conçus pour éliminer au moins une partie des contaminants présents dans le gaz qui les traverse. Le dispositif comprend aussi un régulateur de débit qui répartit l'écoulement gazeux entre les étages de filtres. Dans une forme de réalisation, le régulateur est un diffuseur. L'invention concerne aussi un orifice de tube d'échantillonnage permettant de réguler le débit gazeux dans un système ou un procédé de l'invention. Dans une autre forme de réalisation, l'invention concerne un dispositif permettant d'éliminer les contaminants d'un gaz dans une salle blanche et qui comprend une unité filtre comportant au moins deux étages de filtres parallèles servant à éliminer une partie des contaminants du gaz pendant que celui-ci traverse le dispositif.
Bibliography:Application Number: WO2005US20090