PLASMA GENERATING ELECTRODE, PLASMA REACTOR, AND EXHAUST GAS CLEANER

• Main Authors: MIYAIRI, YUKIO, DOSAKA, KENJI, HATANO, TATSUHIKO, IWAMA, KEIZO, SAKUMA, TAKESHI, FUJIOKA, YASUMASA, MASUDA, MASAAKI, IMANISHI, YUUICHIRO
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 06.01.2005
• Edition: 7
• Subjects: BLASTING; CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY; COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES; ENGINE PLANTS IN GENERAL; FLUES; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNALCOMBUSTION ENGINES; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES ORENGINES IN GENERAL; HEATING; LIGHTING; MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; MECHANICAL ENGINEERING; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTIONRESIDUES; SEPARATION; STEAM ENGINES; THEIR RELEVANT APPARATUS; TRANSPORTING; WEAPONS

A plasma generating electrode (1) comprises unit electrodes (2) stacked hierarchically with a predetermined spacing. The unit electrodes (2) include lack unit electrodes (2b) each having a portion which lacks a conductive film (4) and normal unit electrodes (2a) having no such portion. Spaces (V) formed among units electrodes (2) include normal spaces (Va) and lack spaces (Vb). Each normal space (Va) is so defined that the distance between the conductive films (4) is equal to the distance between the unit electrodes (2). Each lack space (Vb) is so defined between the normal unit electrodes (2a) that the distance between the conductive films (4) is longer than the distance between them (4) in the normal space (Va). The plasma generating electrode (1) efficiently treats predetermined components contained in a fluid to be treated by means of different plasmas suitable for the respective reactions only by flowing the fluid once. L'invention concerne une électrode de production de plasma (1) comportant des électrodes d'unités (2) empilées de façon hiérarchique à des écarts prédéterminés. Les électrodes d'unités (2) comportent des électrodes à manque (2b) présentant une partie dans laquelle la pellicule conductrice (4) est manquante, et des électrodes normales (2a) ne présentant pas de partie de ce type. Des espaces (V) formés dans les électrodes d'unités (2) contiennent des espaces normaux (Va) et des espaces à manque (Vb). Chaque espace normal (Va) est défini de telle manière que l'écart entre les pellicules conductrices (4) est égal à l'écart entre les électrodes d'unités (2). Chaque espace à manque (Vb) est défini de telle manière entre les électrodes d'unités normales (2a) que l'écart entre les pellicules conductrices (4) est supérieur à l'écart entre celles-ci dans l'espace normal (Va). L'électrode de production de plasma (1) permet de traiter efficacement des composants prédéterminés contenus dans un fluide à traiter par l'intermédiaire de différents plasmas conçus pour les réactions respectives par passage unique du fluide.