VAPOR-LIQUID CONTACT TRAYS AND METHOD EMPLOYING SAME

• Main Authors: GRIESEL, CHARLES, A, WEILAND, RALPH, H, RESETARITS, MICHAEL, A, RITER, JOHNNY, B
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 05.02.2004
• Edition: 7
• Subjects: CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SEPARATION; THEIR RELEVANT APPARATUS; TRANSPORTING

A mass transfer column (20) is provided with an external shell defining an open internal region. Centrifugal contact trays (26) and return contact trays (28) are positioned in an alternating and vertically spaced apart relationship within the open internal region. Each contact tray has a plurality of vapor passages (33) for allowing vapor to flow upwardly through the tray deck to interact with liquid on the surface of the tray deck. At least one center downcomer (40) extends downwardly at an opening in the return tray deck and has a lower discharge outlet spaced above the centrifugal tray deck for feeding liquid onto the centrifugal tray deck. A rotation-inducing element may be placed within the center downcomer (40) to induce a rotational motion in liquid exiting the center downcomer (40). At least one annular downcomer (36) extends downwardly the periphery of the centrifugal tray deck and has a lower discharge outlet spaced about the return tray deck for feeding liquid onto the return tray deck. At least one of the centrifugal contact trays is positioned a greater distance above an adjacent return contact tray than the distance at least one of the return contact trays is positioned above an adjacent centrifugal contact tray. The mass transfer column (20) may further include a single support ring (64), one or more baffles (68) or combinations thereof. Une colonne de transfert de masse (20) est équipée d'une enveloppe externe définissant une région interne ouverte. Des plateaux centrifuges de contact (26) et des plateaux de contact de retour (28) sont alternativement positionnés, espacés verticalement les uns des autres dans la région interne ouverte. Chaque plateau de contact comporte plusieurs passages de vapeur (33) permettant un écoulement de vapeur vers le haut de l'étage de plateaux afin d'interagir avec un liquide sur la surface de l'étage de plateaux. Au moins un tube de retour central (40) est orienté vers le bas à partir d'un orifice dans l'étage de plateaux de retour et comporte une sortie d'évacuation inférieure espacée au dessus de l'étage de plateaux centrifuges afin d'alimenter cet étage en liquide. Un élément induisant la rotation peut être placé à l'intérieur du tube de retour central (40) afin de provoquer un mouvement de rotation au liquide sortant de ce tube (40). Au moins un tube de retour annulaire (36) est orienté vers le bas à la périphérie de l'étage de plateaux centrifuges et comporte une sortie d'évacuation inférieure espacée autour de l'étage de plateaux de retour afin d'alimenter en liquide cet étage. Au moins un des plateaux centrifuges de contact est disposé à une distance, au dessus d'un plateau de contact de retour adjacent, supérieure à celle d'au moins un des plateaux de contact de retour disposé au dessus d'un plateau de contact centrifuge adjacent. La colonne de transfert de masse (20) peut aussi comporter un unique anneau de support (64), un ou plusieurs déflecteurs (68) ou des combinaisons de ces deux éléments.