EVALUATING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS

A pattern formation member where a predetermined pattern is formed is placed on a first surface, a photosensitive body having a physical property concerning color such as the color density variable with the amount of energy of an energy beam applied is placed on a second surface, and the pattern is...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors TAKEDA, KANAME, HAYASHI, TSUNEHITO
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 05.06.2003
Edition7
Subjects
Online AccessGet full text

Cover

Loading…
Abstract A pattern formation member where a predetermined pattern is formed is placed on a first surface, a photosensitive body having a physical property concerning color such as the color density variable with the amount of energy of an energy beam applied is placed on a second surface, and the pattern is transferred to the photosensitive body through a projection optical system by applying an energy beam to the pattern formation member (step 413). The image of the pattern is detected according to the change of the physical property of the photosensitive body, such as the presence/absence of color, and the state of formation of the image of the pattern is extracted according to the results of the detection (step 423). A characteristic of an exposure apparatus is evaluated from the state of formation of the image (step 429). Dans cette invention, un élément de formation de motifs, dans lequel on forme un motif prédéterminé, est placé sur une première surface, un corps photosensible ayant une propriété physique concernant la couleur, telle que la densité de couleur variable avec la quantité d'énergie d'un faisceau d'énergie appliqué, est placé sur une seconde surface, et le motif est transféré au corps photosensible par l'intermédiaire d'un système optique de projection qui applique un faisceau d'énergie sur l'élément de formation d'image (étape 413). L'image du motif est détectée en fonction de la variation de la propriété physique du corps photosensible, par exemple la présence/l'absence de couleur, et l'état de formation de l'image du motif est extrait en fonction des résultats de cette détection (étape 423). Une caractéristique d'un appareil d'exposition est évaluées à partir de l'état de formation de l'image (étape 429).
AbstractList A pattern formation member where a predetermined pattern is formed is placed on a first surface, a photosensitive body having a physical property concerning color such as the color density variable with the amount of energy of an energy beam applied is placed on a second surface, and the pattern is transferred to the photosensitive body through a projection optical system by applying an energy beam to the pattern formation member (step 413). The image of the pattern is detected according to the change of the physical property of the photosensitive body, such as the presence/absence of color, and the state of formation of the image of the pattern is extracted according to the results of the detection (step 423). A characteristic of an exposure apparatus is evaluated from the state of formation of the image (step 429). Dans cette invention, un élément de formation de motifs, dans lequel on forme un motif prédéterminé, est placé sur une première surface, un corps photosensible ayant une propriété physique concernant la couleur, telle que la densité de couleur variable avec la quantité d'énergie d'un faisceau d'énergie appliqué, est placé sur une seconde surface, et le motif est transféré au corps photosensible par l'intermédiaire d'un système optique de projection qui applique un faisceau d'énergie sur l'élément de formation d'image (étape 413). L'image du motif est détectée en fonction de la variation de la propriété physique du corps photosensible, par exemple la présence/l'absence de couleur, et l'état de formation de l'image du motif est extrait en fonction des résultats de cette détection (étape 423). Une caractéristique d'un appareil d'exposition est évaluées à partir de l'état de formation de l'image (étape 429).
Author TAKEDA, KANAME
HAYASHI, TSUNEHITO
Author_xml – fullname: TAKEDA, KANAME
– fullname: HAYASHI, TSUNEHITO
BookMark eNrjYmDJy89L5WRwdA1z9Al1DPH0c1fwdQ3x8HdRcPRzgTHd_IMUfB39Qt0cnUNCg0BqXCMC_INDg1wVHAMCHIMcQ0KDeRhY0xJzilN5oTQ3g6Kba4izh25qQX58anFBYnJqXmpJfLi_gbGBiZmlmZGjoTExagAKLS0a
ContentType Patent
DBID EVB
DatabaseName esp@cenet
DatabaseTitleList
Database_xml – sequence: 1
  dbid: EVB
  name: esp@cenet
  url: http://worldwide.espacenet.com/singleLineSearch?locale=en_EP
  sourceTypes: Open Access Repository
DeliveryMethod fulltext_linktorsrc
Discipline Medicine
Chemistry
Sciences
Physics
DocumentTitleAlternate PROCEDE D'EVALUATION ET PROCEDE POUR LA FABRICATION D'UN APPAREIL D'EXPOSITION
Edition 7
ExternalDocumentID WO03046962A1
GroupedDBID EVB
ID FETCH-epo_espacenet_WO03046962A13
IEDL.DBID EVB
IngestDate Fri Jul 19 12:43:30 EDT 2024
IsOpenAccess true
IsPeerReviewed false
IsScholarly false
Language English
French
Japanese
LinkModel DirectLink
MergedId FETCHMERGED-epo_espacenet_WO03046962A13
Notes Application Number: WO2002JP12271
OpenAccessLink https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20030605&DB=EPODOC&CC=WO&NR=03046962A1
ParticipantIDs epo_espacenet_WO03046962A1
PublicationCentury 2000
PublicationDate 20030605
PublicationDateYYYYMMDD 2003-06-05
PublicationDate_xml – month: 06
  year: 2003
  text: 20030605
  day: 05
PublicationDecade 2000
PublicationYear 2003
RelatedCompanies NIKON CORPORATION
TAKEDA, KANAME
HAYASHI, TSUNEHITO
RelatedCompanies_xml – name: TAKEDA, KANAME
– name: HAYASHI, TSUNEHITO
– name: NIKON CORPORATION
Score 2.6733532
Snippet A pattern formation member where a predetermined pattern is formed is placed on a first surface, a photosensitive body having a physical property concerning...
SourceID epo
SourceType Open Access Repository
SubjectTerms APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
Title EVALUATING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE APPARATUS
URI https://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20030605&DB=EPODOC&locale=&CC=WO&NR=03046962A1
hasFullText 1
inHoldings 1
isFullTextHit
isPrint
link http://utb.summon.serialssolutions.com/2.0.0/link/0/eLvHCXMwfV1LS8NAEB5Kfd60KrU-iCC5BcMmm8ehyDbZWMU8SJOaWzGbBOyhLTbi33ezNtaL3pZZGHYHZme-nRfALbNUzWTYVApTNxS9QIZi5XaloAqXuY4qVbOaamQ_MMap_pThrAPzthZG9An9FM0RuUYxru-1eK9X208sV-RWru_yN05a3nvJ0JVbdMwdYBXL7mhIo9ANHdlxOG6Tg3goIoC2gQhHSjuNG9302afTUVOVsvptUrwj2I04t0V9DJ35aw8OnHbyWg_2_U3Auwd7IkOTrTlxo4XrEyB0Sp5TkjwGD5JPk3HoSiRw2yWHdZJPgtQjTpI2uQ4SzaJwksZUIlFEYpKkk1O48WjijBV-qtmPCGYv4fYC2hl0F8tF2QcJoWZYeG5oml3qhlraSMUVwlXBbD1nDJ_D4G8-g_82L-AQfQ8aVFR8Cd36_aO84ua3zq-F3L4AVReCug
link.rule.ids 230,309,786,891,25594,76906
linkProvider European Patent Office
linkToHtml http://utb.summon.serialssolutions.com/2.0.0/link/0/eLvHCXMwfV1LS8NAEB5KfdSbVkXrK4LkFgybbNIcimzzMNXmQbupvRWzTcAe2mIi_n03a2O96G2ZhWF3YHbm23kB3LGuqpkMm8rc1A1FnyND6aZWrqAcZ6mOclXrVtXIQWj4if40xdMGLOpaGNEn9FM0R-Qaxbi-l-K9Xm8_sRyRW1ncp2-ctHrwaM-Ra3TMHWAVy06_58aRE9mybXPcJoejnogAWgYiHCntmFV33sp1mvSrqpT1b5PiHcJuzLktyyNoLF7b0LLryWtt2A82Ae827IkMTVZw4kYLi2Mg7oQME0IH4aMUuNSPHImETr3ksE4KSJh4xKZJlesgudM4GicjVyJxTEaEJuMTuPVcavsKP9XsRwSzl2h7Ae0UmsvVMjsDCaFqWHhqaJqV6YaaWUjFOcL5nFl6yhg-h87ffDr_bd5Ay6fBcDYchM8XcIC-hw4qKr6EZvn-kV1xU1ym10KGX5rmhac
openUrl ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info%3Aofi%2Fenc%3AUTF-8&rfr_id=info%3Asid%2Fsummon.serialssolutions.com&rft_val_fmt=info%3Aofi%2Ffmt%3Akev%3Amtx%3Apatent&rft.title=EVALUATING+METHOD+AND+METHOD+FOR+MANUFACTURING+EXPOSURE+APPARATUS&rft.inventor=TAKEDA%2C+KANAME&rft.inventor=HAYASHI%2C+TSUNEHITO&rft.date=2003-06-05&rft.externalDBID=A1&rft.externalDocID=WO03046962A1