METHOD FOR PRODUCING HIGH-PURITY SILICON
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von hoch reinem Silizium, insbesondere für photovoltaische Verwendungszwecke, vorzugsweise zur Verwendung für die Waferfertigung, bei dem zur Siliziumgewinnung Silan thermisch zersetzt wird, das dadurch gekennzeichnet ist, dass gasförmiges Silan i...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
11.03.2004
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Edition | 7 |
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