Fremgangsmate for fremstilling av gyroskop med vibrerende struktur

• Main Authors: FELL, CHRISTOPHER PAUL, STURLAND, IAN, TOWNSEND, KEVIN
• Format: Patent
• Language: Norwegian
• Published: 22.08.2001
• Edition: 7
• Subjects: GYROSCOPIC INSTRUMENTS; MEASURING; MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; NAVIGATION; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY; PHYSICS; SURVEYING; TESTING

Et gyroskop med vibrerende struktur som har en vibrerende struktur (1) bestående av en vesentlig plan ring av kisel, kapasitive organer for å bibringe drivbevegelse til og av-føle bevegelse av den vibrerende struktur (1), og et skjermlag (15) som omgir de kapasitive organer lages ved avsetning av fotoresistmateriale (9) på et glass eller ki-selsubstrat (7), herding, pålegging av mønster og fremkal-ling av fotoresistmateriale (9) for å eksponere områder av substratet (7), å etse de eksponerte områder for å danne hulrom (10) deri, å fjerne ethvert gjenværende fotoresistmateriale (9), å feste et kisellag (8) til substratet (7) med hulrom, å avsette et lag av aluminium på kisellaget (8), å avsette fotoresistmateriale på aluminiumlaget, å herde, legge mønster på og fremkalle fotoresistlaget for å eksponere områder av aluminiumlaget, å etse de eksponerte områder av aluminiumlaget for å beholde områder av aluminium på kisellaget som tilveiebringer festeputer (11, 12, 13 og 14), å fjerne de gjenværende fotoresist fra aluminiumlaget, å avsette et annet lag av fotoresistmaterialet på kisellaget (8) og dypreaktiv ioneetse de eksponerte områder på kisellaget (8) for derfra å danne den substansielle planare ringvibrerende struktur (1) montert på et nav (4) over hulrommene (10). A vibrating structure gyroscope having a silicon substantially planar ring vibrating structure (1) capacitive means for imparting drive motion to and sensing motion of the vibrating structure (1), and a screen layer (15) surrounding the capacitive means is made by depositing photoresist material (9) on a glass or silicon substrate (7), hardening, patterning and developing the photoresist (9) to expose areas of the substrate (7), etching the exposed areas to form cavities (10) therein, stripping any remaining photoresist material (9) attaching a silicon layer (8) to the cavitated substrate (7) depositing a layer of aluminium on the silicon layer (8), depositing photoresist material on the aluminium layer, hardening, patterning and developing the photoresist layer to expose areas of the aluminium layer, etching the exposed areas of the aluminium layer to leave regions of aluminium on the silicon layer providing bond pads (11, 12, 13 and 14), stripping the remaining photoresist from the aluminium layer, depositing another layer of photoresist material on the silicon layer (8) over the remaining deposited aluminium layer regions, hardening, patterning and developing the layer of photoresist material to expose areas of the silicon layer (8) and deep reactive ion etching the exposed areas of the silicon layer (8) to form therefrom the substantially planar ring vibrating structure (1) mounted by a hub (4) above the cavities (10).