Holography-based surface shape information acquisition system through wavelength combination

본 발명의 목적은, 참조단의 빛을 공간 광 변조기(SLM)을 활용하여 나눔으로써, 기존의 기술보다 깊이 측정 범위를 확장할 수 있을 뿐만 아니라, NA를 잃지 않고도 깊이 측정 범위를 확장할 수 있는 파장 조합을 통한 홀로그래피 기반 표면 형상정보 획득 시스템을 제공하는 것이다. 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 제1파장의 제1광을 생성하고, 상기 제1광을 제1분할광 및 제2분할광으로 분할하여 광을 생성하는 제1광원부; 제2파장의 제2광을 생성하고, 상기 제2광을 제3분활광 및 제4분활광으로 분할하여 광을 생성하는 제2광원부;...

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Main Authors PIL SUNG KANG, JAE GWAN CHOI, SUNG SOO WOO
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 02.07.2024
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Summary:본 발명의 목적은, 참조단의 빛을 공간 광 변조기(SLM)을 활용하여 나눔으로써, 기존의 기술보다 깊이 측정 범위를 확장할 수 있을 뿐만 아니라, NA를 잃지 않고도 깊이 측정 범위를 확장할 수 있는 파장 조합을 통한 홀로그래피 기반 표면 형상정보 획득 시스템을 제공하는 것이다. 상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 제1파장의 제1광을 생성하고, 상기 제1광을 제1분할광 및 제2분할광으로 분할하여 광을 생성하는 제1광원부; 제2파장의 제2광을 생성하고, 상기 제2광을 제3분활광 및 제4분활광으로 분할하여 광을 생성하는 제2광원부; 상기 제2분할광과 상기 제4분할광을 입사받아 이를 샘플로 입사시켜 제1샘플광 및 제2샘플광을 형성시키는 샘플광 형성부; 및 상기 제1분할광이 기준 미러로부터 반사된 광이 제1 공간 광 변조기(SLM)를 투과하여 형성된 제1기준광과 상기 제3분할광이 기준 미러로부터 반사된 광이 제2 공간 광 변조기(SLM)를 투과하여 형성된 제2기준광을 수광하고, 상기 제1샘플광 및 상기 제2샘플광을 수광하여 간섭신호를 생성하는 촬상부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Bibliography:Application Number: KR20220181904