탈착가능 샤프트를 갖는 정전 척

• Main Author: PARKHE VIJAY D
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 26.06.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

플라즈마 프로세싱 챔버들을 위한 ESC(electrostatic chuck)들 및 ESC들을 제작하는 방법들이 설명된다. 일 예에서, 기판 지지 조립체는 냉각 최하부 플레이트, 세라믹 최상부 플레이트, 및 세라믹 최상부 플레이트와 냉각 최하부 플레이트 사이의 본드 층을 포함하며, 세라믹 최상부 플레이트는 본드 층과 직접 접촉하고, 그리고 본드 층은 냉각 최하부 플레이트와 직접 접촉한다. 탈착가능 샤프트가, 본드 층 반대편의, 냉각 최하부 플레이트의 면에서 복수의 볼트들에 의해 냉각 최하부 플레이트에 커플링된다. Electrostatic chucks (ESCs) for plasma processing chambers, and methods of fabricating ESCs, are described. In an example, a substrate support assembly includes a cooling bottom plate, a ceramic top plate, and a bond layer between the ceramic top plate and the cooling bottom plate, the ceramic top plate in direct contact with the bond layer, and the bond layer in direct contact with the cooling bottom plate. A detachable shaft is coupled to the cooling bottom plate by a plurality of bolts at a side of the cooling bottom plate opposite the bond layer.