PLASMA MONITORING SYSTEM

• Main Author: JEONG YUN SONG
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 25.06.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; COLORIMETRY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT,POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED,VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; MEASURING; PHYSICS; RADIATION PYROMETRY; TESTING

플라즈마 모니터링 시스템은, 반도체 기판 상에 플라즈마를 통해 반도체 공정을 수행하기 위한 플라즈마 공간을 제공하고, 상기 반도체 기판을 지지하기 위한 기판 스테이지 및 광학 윈도우를 갖는 측벽을 포함하는 챔버, 상기 기판 스테이지 상에 배치되고, 복수 개의 관통 홀들을 갖는 바디 및 상기 플라즈마로부터 상기 각각의 관통 홀들 상으로 입사된 광들을 수집하여 상기 광학 윈도우 상으로 전달하기 위한 복수 개의 광 수집기들을 갖는 광 수집 장치, 및 상기 광학 윈도우 상으로 조사된 상기 각각의 광들로부터 광 스펙트럼들을 획득하기 위한 분광기를 갖고, 상기 광 스펙트럼들로부터 상기 플라즈마의 상태를 상기 관통 홀들의 위치에 대응하여 맵핑하기 위한 광 분석 장치를 포함한다. A plasma monitoring system includes a chamber with an interior space, the chamber being configured to perform a semiconductor process on a semiconductor substrate using plasma in the interior space, and the chamber including an optical window, a substrate stage within the chamber to support the semiconductor substrate, a light collecting device on the substrate stage, the light collecting device including a body and light collectors, the body having through holes therethrough, and the light collectors being configured to collect light respectively incident on the through holes from the plasma and to transfer the collected lights onto the optical window, and a light analyzer including a spectrometer that is configured to obtain an optical spectrum from each light irradiated onto the optical window, and to map a state of the plasma from the optical spectrum to correspond to positions of the through holes.