게르마늄 촉매를 이용한 코폴리에스터의 제조 방법
코폴리에스터를 포함하는 물품이 제공되며, 상기 코폴리에스터는, (a) 하나 이상의 테레프탈레이트 단량체 잔기; (b) 약 85 내지 약 96 mol%의 에틸렌 글리콜 잔기; (c) 약 4 내지 약 15 mol%의, 1,4-사이클로헥산다이메탄올 잔기(CHDM), 모노프로필렌 글리콜 잔기(MPG) 및 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-사이클로부탄 다이올 잔기(TMCD)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 글리콜 잔기와 다이에틸렌 글리콜(DEG)의 조합; 및 (d) 게르마늄 원소를 기준으로 약 5 내지 약 500 ppm의 농도로 상기...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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03.05.2024
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Summary: | 코폴리에스터를 포함하는 물품이 제공되며, 상기 코폴리에스터는, (a) 하나 이상의 테레프탈레이트 단량체 잔기; (b) 약 85 내지 약 96 mol%의 에틸렌 글리콜 잔기; (c) 약 4 내지 약 15 mol%의, 1,4-사이클로헥산다이메탄올 잔기(CHDM), 모노프로필렌 글리콜 잔기(MPG) 및 2,2,4,4-테트라메틸-1,3-사이클로부탄 다이올 잔기(TMCD)로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 글리콜 잔기와 다이에틸렌 글리콜(DEG)의 조합; 및 (d) 게르마늄 원소를 기준으로 약 5 내지 약 500 ppm의 농도로 상기 코폴리에스터에 존재하는 게르마늄 촉매를 포함하고, 여기서 이산 단량체는, 총 200 mol%에 대해, 100 mol% 다이올 당량에 대해 실질적으로 동일한 100 mol% 이산 당량을 기준으로 한다.
A copolyester is provided comprising: a. terephthalate acid residues; b. about 85 to about 96 mole% of ethylene glycol residues; c. about 4 to about 15 mole% of a. combination of diethylene glycol (DEG) residues and at least one glycol residue selected from the group consisting of 1,4-cyclohexanedimethanol residues (CHDM), monopropylene glycol residues (MPG), and 2, 2,4,4- tetramethyl-1,3-cyclobutane diol residues (TMCD); and d. a germanium catalyst present in the copolyester at a concentration of about 5 to about 500 ppm based on elemental germanium; wherein the terephthalate monomer is based on the substantially equal diacid equivalents of 100 mole% to diol equivalence of 100 mole% for a total of 200 mole%. |
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Bibliography: | Application Number: KR20247010486 |