감광성 수지 조성물, 감광성 수지 적층체, 및 레지스트 패턴의 형성 방법

• Main Authors: MATSUO YUKI, NISHIMOTO HIDEAKI, UNO DAISUKE, SAKURAI TAKAAKI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.04.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; PRINTED CIRCUITS

알칼리 가용성 고분자의 코모노머 성분 중, 적어도 산 코모노머 성분에 대해서 그 종류 및 비율을 제어하여 각종 특성의 향상을 도모할 수 있는, 감광성 수지 조성물을 제공한다. 감광성 수지 조성물은, 이하의 성분 : (A) 알칼리 가용성 고분자, (B) 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물, 및 (C) 광 중합 개시제를 포함하는 감광성 수지 조성물로서, (A) 성분이, 적어도 하기의 코모노머 성분 : (a) 메타크릴산 또는 아크릴산, (b) 상기 (a) 성분으로서 선택된 산과는 상이한 카르복실산, 및 (c) 방향족 구조 또는 지환식 구조를 갖는 화합물에서 유래하는 구성 단위를 갖고, (A) 성분에 있어서의, (a) 성분에서 유래하는 구성 단위의 질량 비율 (a1) 과, (b) 성분에서 유래하는 구성 단위의 질량 비율 (b1) 의 비율 (질량 비율 (a1)/질량 비율 (b1)) 이 1/10 ∼ 10 이다. The present invention provides a photosensitive resin composition that has various improved characteristics as a result of the types and proportions of at least the acid comonomer components of the comonomer components of an alkali-soluble polymer being controlled.　According to the present invention, a photosensitive resin composition includes the following components: (A) an alkali-soluble polymer; (B) a compound that has an ethylenically unsaturated bond; (C) and a photopolymerization initiator. The (A) component includes structural units derived from at least the following comonomer components: (a) methacrylic acid or acrylic acid; (b) a carboxylic acid that is different from the acid selected as the (a) component; and (c) a compound that has an aromatic structure or an alicyclic structure. The ratio (mass fraction (a1)/mass fraction (b1)) between the mass fraction (a1) of the structural units of the (A) component that are derived from the (a) component and the mass fraction (b1) of the structural units that are derived from the (b) component is 1/10-10.