측정 레시피 결정 방법 및 관련된 장치

• Main Authors: TSIATMAS ANAGNOSTIS, VAN DONGEN JEROEN, VAN DER MEIJDEN VIDAR, VERMA ALOK, MC NAMARA ELLIOTT GERARD
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.04.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

기판 상의 복합 구조체로부터 관심 대상 매개변수를 측정하기 위한 측정 설정을 기술하는 측정 레시피를 결정하는 방법이 제공된다. 본 방법은 기준 타겟들의 측정과 관련된 제1 트레이닝 데이터를 획득하는 것을 포함하며, 타겟은 관심 대상 매개변수 타겟들 -각 관심 대상 매개변수 타겟은 상기 복수의 관심 대상 매개변수 타겟에 걸쳐 변화되는 유도된 설정값을 가짐-; 및 하나 이상의 격리된 피처 타겟 -각 피처 타겟은 하나 이상의 피처의 반복을 포함함-을 포함한다. 상기 복합 구조체의 하나 이상의 인스턴스의 측정으로부터 획득된 복합 구조체 측...