측정 레시피 결정 방법 및 관련된 장치

• Main Authors: TSIATMAS ANAGNOSTIS, VAN DONGEN JEROEN, VAN DER MEIJDEN VIDAR, VERMA ALOK, MC NAMARA ELLIOTT GERARD
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.04.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

기판 상의 복합 구조체로부터 관심 대상 매개변수를 측정하기 위한 측정 설정을 기술하는 측정 레시피를 결정하는 방법이 제공된다. 본 방법은 기준 타겟들의 측정과 관련된 제1 트레이닝 데이터를 획득하는 것을 포함하며, 타겟은 관심 대상 매개변수 타겟들 -각 관심 대상 매개변수 타겟은 상기 복수의 관심 대상 매개변수 타겟에 걸쳐 변화되는 유도된 설정값을 가짐-; 및 하나 이상의 격리된 피처 타겟 -각 피처 타겟은 하나 이상의 피처의 반복을 포함함-을 포함한다. 상기 복합 구조체의 하나 이상의 인스턴스의 측정으로부터 획득된 복합 구조체 측정 신호를 포함하는 제2 트레이닝 데이터가 획득된다. 하나 이상의 기계 학습 모델은, 피처 비대칭 기여도에 대해 보정된 상기 복합 구조체와 관련된 측정 신호로부터 관심 대상 매개변수에 대한 값을 추론하도록 상기 제1 트레이닝 데이터와 제2 트레이닝 데이터를 이용하여 트레이닝된다. Disclosed is a method for determining a measurement recipe describing measurement settings for measuring a parameter of interest from a compound structure on a substrate. The method comprises obtaining first training data relating to measurements of reference targets, the targets comprising: a parameter of interest targets, each parameter of interest target having an induced set value which is varied over said parameter of interest targets; and one or more isolated feature targets, each comprising repetitions of one or more features. Second training data is obtained comprising compound structure measurement signals obtained from measurement of one or more instances of said compound structure, One or more machine learning models are trained using said first training data and second training data to infer a value for the parameter of interest from a measurement signal related to said compound structure corrected for a feature asymmetry contribution.