이온화 진공 게이지용 챔버

• Main Authors: KAISER STEFAN, WALDNER ASTRID, WALCHLI URS, ANDREAUS BERNHARD, TREFZER MICHAEL, WUEST MARTIN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 04.04.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; MEASURING; MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER,MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE; PHYSICS; TESTING

본 발명은 진공 압력 센서(40)의 플라즈마 발생 영역(42)을 경계짓는 챔버(11, 12, 13)에 관한 것으로, 챔버는 중심축(A)에 대하여 외부에 방사상으로 위치하는 전기 전도성 케이싱 요소(1, 1', 1'')를 포함하고, 챔버는 중심축에 실질적으로 수직으로 배열되고 케이싱 요소에 연결된 전기 전도성 벽 요소들(2, 2', 2'')을 포함하고, 벽 요소들 중 적어도 하나는 중심축(A)이 이를 통해 연장되는 제1 개구(3)를 갖고, 케이싱 요소는 적어도 제1 영역(B1) 및 제2 영역(B2)을 포함하고, 제1 영역은 제2 영역보다 중심축에 더 가깝게 위치된다. 본 발명은 또한 챔버를 포함하는 진공 압력 센서에 관한 것이다. Chamber (11, 12, 13) for bounding a plasma generation area (42) in a vacuum pressure sensor (40), wherein the chamber comprises an electrically conductive casing element (1, 1′, 1″) located radially on the outside relative to a central axis, wherein the chamber comprises electrically conductive wall elements (2, 2′, 2″) arranged substantially perpendicular to the central axis and connected to the casing element, wherein at least one of the wall elements has a first opening (3), through which the central axis extends, wherein the casing element comprises at least a first (B1) and a second region (B2), wherein the first region is located closer to the central axis than the second region. The invention further relates to a vacuum pressure sensor comprising the chamber.