DETECTION DEVICE LITHOGRAPHY APPARATUS AND ARTICLE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: TODA SHUN, IWAI TOSHIKI, UNNO YASUYUKI, FUJITA YUICHI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 30.01.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

검출 장치는 중첩하는 제1 마크와 제2 마크 사이의 상대 위치를 검출한다. 장치는 제1 및 제2 마크를 무편광 조명광으로 조명하도록 구성되는 조명 시스템, 이미지 센서를 가지며 제1 및 제2 마크로부터의 회절광으로부터 이미지 센서의 촬상면에 상을 형성하도록 구성되는 검출 시스템을 포함한다. 제1 및 제2 마크는 제1 또는 제2 방향에서의 상대 위치를 나타내는 광학 정보를 촬상면에 형성하도록 구성된다. 검출 시스템의 퓨필면에 배치된 차광체는 검출 시스템의 광축을 제1 방향에 공액인 방향으로 가로지르는 제1 차광부 및 검출 시스템의 광축을 제2 방향에 공액인 제4 방향으로 가로지르를 제2 차광부를 포함한다. Detection device detects relative position between overlapping first and second marks. The device includes illumination system configured to illuminate the first and second marks with unpolarized illumination light, detection system having image sensor and configured to form image on imaging surface of the image sensor from diffracted lights from the first and second marks. The first and second marks are configured to form, on the imaging surface, optical information representing the relative position in first or second direction. Light blocking body arranged on pupil surface of the detection system includes first light blocking portion crossing the optical axis of the detection system in direction conjugate to the first direction and second light blocking portion crossing the optical axis of the detection system in fourth direction conjugate to the second direction.