LIQUID PROCESSING APPARATUS

• Main Authors: SHIMMURA SATOSHI, MUTA KOSHI, KAWAKAMI KOHEI, SHIBASAKI KENTA, UEYAMA SHOTA, MIYAMOTO TETSUSHI, TAKAHASHI DAIKI, KIM JUNGHYUN
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 12.01.2024
• Subjects: APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; TRANSPORTING

본 발명은, 기판의 회전 도포 처리 시에 발생하는 이물에 의한 배기 경로의 막힘을 억제한다. 기판 상에 도포액을 도포하는 액 처리 장치이며, 상기 기판을 보유 지지해서 회전시키는 기판 보유 지지부와, 해당 기판 보유 지지부에 보유 지지된 상기 기판에 상기 도포액을 공급하는 도포액 공급부와, 상기 기판 보유 지지부에 보유 지지되는 상기 기판을 둘러싸는 컵과, 상기 도포액 포집부에 상기 도포액의 용제를 공급하는 용제 공급부를 구비하고, 상기 컵은, 상기 기판 보유 지지부의 외측에 배치된 외측 컵부와, 상기 외측 컵부의 내주측이면서 또한 상기 기판 보유 지지부의 하방에 배치되고, 하방으로 연장된 벽체를 갖는 내측 컵부와, 상기 외측 컵부와 상기 내측 컵부의 사이에 마련된 배기 경로와, 상기 내측 컵부의 하방에 마련되고, 상기 배기 경로와 연통하는, 상향으로 개구된 배기구를 갖는 통 형상 벽부와, 상기 내측 컵부의 상기 벽체의 하방에서, 해당 벽체의 하단과의 사이에 간극을 두고 배치된 도포액 포집부를 갖고, 상기 도포액 포집부는, 상기 통 형상 벽부에 고정되어 있다. A liquid processing apparatus that applies a coating liquid onto a substrate, includes: a substrate holder that holds and rotates the substrate; a coating liquid supplier that applies the coating liquid to the substrate; a cup provided to surround the substrate; and a solvent supplier that supplies a solvent for the coating liquid to a coating liquid collector. The cup includes: an outer cup arranged outside the substrate holder; an inner cup arranged on an inner peripheral side of the outer cup below the substrate holder and having a downwardly-extending wall; an exhaust path provided between the outer and inner cups; a cylindrical wall portion provided below the inner cup and having an upwardly-opened exhaust port communicating with the exhaust path; and the coating liquid collector arranged below the wall of the inner cup with a gap between the coating liquid collector and a lower end of the wall.