전하 소산 레티클 테이블 세정 레티클

• Main Authors: RIZO DIAGO PEDRO JULIAN, VOEVODKIN GEORGE GRIGORIEVICH, EBERT EARL WILLIAM
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 08.08.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

리소그래피 장치의 레티클 스테이지에 대한 레티클 스테이지 세정 장치는 전면 및 전면에 대향하는 후면을 갖는 기판, 및 기판의 전면 상에 배치되는 전도성 층을 포함한다. 전도성 층은 레티클 스테이지 상의 전하를 소산시키기 위해 그리고 전도성 층과 레티클 스테이지 사이에서 생성되는 정전기장을 통해 레티클 스테이지 상의 입자를 제거하기 위해 레티클 스테이지와 접촉하도록 구성된다. 기판은 복수의 홈을 포함할 수 있고 전도성 층은 기판의 전면 및 복수의 홈의 저부 표면 상에 배치될 수 있다. 레티클 스테이지 세정 장치는 제2 정전기장을 통해 레티클 스테이지 상의 입자를 제거하도록 그리고 복수의 홈의 저부 표면의 전도성 층 위에 배치되도록 구성되는 제2 전도성 층을 포함할 수 있다. A reticle stage cleaning apparatus for a reticle stage in a lithographic apparatus includes a substrate having a frontside and a backside opposite the frontside and a conductive layer disposed on the frontside of the substrate. The conductive layer is configured to contact the reticle stage to dissipate charge on the reticle stage and to remove particles on the reticle stage via an electrostatic field generated between the conductive layer and the reticle stage. The substrate can include a plurality of grooves and the conductive layer can be disposed on the frontside of the substrate and on a bottom surface of the plurality of grooves. The reticle stage cleaning apparatus can include a second conductive layer configured to remove particles on the reticle stage via a second electrostatic field and be disposed atop the conductive layer in the bottom surface of the plurality of grooves.