다중 카메라 홀 충전을 위한 방법 및 디바이스

방법은, 제1 내인성 파라미터들과 연관된 제1 이미지 센서로부터 환경의 제1 이미지를 획득하는 단계; 제1 이미지 센서와 전자 디바이스의 사용자 사이의 관점 차이들을 고려하기 위해, 워핑된 제1 이미지를 생성하기 위해 관점 오프셋 값들에 따라 제1 이미지에 대해 워핑 동작을 수행하는 단계; 복수의 홀들을 포함하는 워핑된 제1 이미지에 기초하여 폐색 마스크를 결정하는 단계; 제2 내인성 파라미터들과 연관된 제2 이미지 센서로부터 환경의 제2 이미지를 획득하는 단계; 정규화된 제2 이미지를 생성하기 위해 제1 내인성 파라미터들과 제2...

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Main Authors PIUZE PHANEUF EMMANUEL, CHAPDELAINE COUTURE VINCENT, NEPVEU BERTRAND
Format Patent
LanguageKorean
Published 04.08.2023
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Summary:방법은, 제1 내인성 파라미터들과 연관된 제1 이미지 센서로부터 환경의 제1 이미지를 획득하는 단계; 제1 이미지 센서와 전자 디바이스의 사용자 사이의 관점 차이들을 고려하기 위해, 워핑된 제1 이미지를 생성하기 위해 관점 오프셋 값들에 따라 제1 이미지에 대해 워핑 동작을 수행하는 단계; 복수의 홀들을 포함하는 워핑된 제1 이미지에 기초하여 폐색 마스크를 결정하는 단계; 제2 내인성 파라미터들과 연관된 제2 이미지 센서로부터 환경의 제2 이미지를 획득하는 단계; 정규화된 제2 이미지를 생성하기 위해 제1 내인성 파라미터들과 제2 내인성 파라미터들 사이의 차이에 기초하여 제2 이미지를 정규화하는 단계; 및 수정된 제1 이미지를 생성하기 위해, 정규화된 제2 이미지에 기초하여 폐색 마스크의 하나 이상의 홀들의 제1 세트를 충전하는 단계를 포함한다. The method includes: obtaining a first image of an environment from a first image sensor associated with first intrinsic parameters; performing a warping operation on the first image according to perspective offset values to generate a warped first image in order to account for perspective differences between the first image sensor and a user of the electronic device; determining an occlusion mask based on the warped first image that includes a plurality of holes; obtaining a second image of the environment from a second image sensor associated with second intrinsic parameters; normalizing the second image based on a difference between the first and second intrinsic parameters to produce a normalized second image; and filling a first set of one or more holes of the occlusion mask based on the normalized second image to produce a modified first image.
Bibliography:Application Number: KR20237003218