Phase Shift Blankmask and Photomask using the Flat Panel Display

• Main Authors: KIM DONG GEUN, KANG DONG SHIK, LEE JONG MIN, JEON YOUNG JO, GONG JONG GYU
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 04.07.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A phase inversion blank mask for a flat panel display (FPD) according to the present invention comprises a phase inversion film having a transmission variation controlling layer and a phase inversion layer which are sequentially provided on a transparent substrate. The phase inversion film has a transmittance deviation of 4 % or less for each wavelength with respect to exposure light in a deep ultraviolet (DUV) area of a wavelength of 248-380 nm. Since the phase inversion blank mask for a FPD and a photomask according to the present invention have the transmittance deviation of 4 % or less for each wavelength with respect to the exposure light in the DUV area of the wavelength of 248-380 nm by forming the phase inversion film composed of the transmission variation controlling layer and the phase inversion layer, thereby facilitating production of a high-resolution display. 본 발명에 따른 FPD용 위상반전 블랭크 마스크는, 투명 기판 상에 순차적으로 구비된 투과변이 제어층 및 위상반전층을 포함하는 위상반전막이 구비되며, 상기 위상반전막은 248㎚ ∼ 380㎚의 Deep Ultraviolet(DUV) 영역 파장의 노광광에 대하여 각 파장별로 4% 이하의 투과율 편차를 갖다. 본 발명에 따른 FPD용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크는 투과변이 제어층 및 위상반전층으로 이루어진 위상반전막을 형성함에 따라, 248㎚ ∼ 380㎚의 Deep Ultraviolet(DUV) 영역 파장의 노광광에 대하여 각 파장별로 투과율 편차가 4% 이하가 되도록 함으로써 고해상도 디스플레이 제작이 가능하다.