RPS 퍼징을 가능하게 하기 위한 가스 혼합기

• Main Authors: RAMAMURTHI BADRI N, NARAYANAN RAJARAM, CHOUDHURY RUPANKAR, RUAN FANG, MINGS SHERRY L, PARIMI VENKATA SHARAT CHANDRA, JOSEPH JOB GEORGE KONNOTH, KEDLAYA DIWAKAR, BANSAL AMIT
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.06.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

반도체 프로세싱 시스템은 원격 플라즈마 소스(RPS; remote plasma source), 페이스플레이트(faceplate), 및 RPS와 페이스플레이트 사이에 포지셔닝된 출력 매니폴드(output manifold)를 포함한다. 출력 매니폴드는 퍼지 가스 소스(purge gas source)와 유체적으로 결합되는 복수의 퍼지 배출구들 및 증착 가스 소스와 유체적으로 결합되는 복수의 증착 배출구들을 특징으로 한다. 전달 튜브가 RPS와 페이스플레이트 사이에서 연장되어 RPS와 페이스플레이트를 유체적으로 결합시킨다. 전달 튜브는 방...