RPS 퍼징을 가능하게 하기 위한 가스 혼합기

• Main Authors: RAMAMURTHI BADRI N, NARAYANAN RAJARAM, CHOUDHURY RUPANKAR, RUAN FANG, MINGS SHERRY L, PARIMI VENKATA SHARAT CHANDRA, JOSEPH JOB GEORGE KONNOTH, KEDLAYA DIWAKAR, BANSAL AMIT
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.06.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

반도체 프로세싱 시스템은 원격 플라즈마 소스(RPS; remote plasma source), 페이스플레이트(faceplate), 및 RPS와 페이스플레이트 사이에 포지셔닝된 출력 매니폴드(output manifold)를 포함한다. 출력 매니폴드는 퍼지 가스 소스(purge gas source)와 유체적으로 결합되는 복수의 퍼지 배출구들 및 증착 가스 소스와 유체적으로 결합되는 복수의 증착 배출구들을 특징으로 한다. 전달 튜브가 RPS와 페이스플레이트 사이에서 연장되어 RPS와 페이스플레이트를 유체적으로 결합시킨다. 전달 튜브는 방사상 패턴(radial pattern)으로 배열된 상부 복수의 구멍들을 정의하는 일반적 원통형 측벽(generally cylindrical sidewall)을 특징으로 한다. 상부 구멍들 각각은 퍼지 배출구들 중 하나와 유체적으로 결합된다. 일반적 원통형 측벽은 방사상 패턴으로 그리고 상부 복수의 구멍들 아래에 배열되는 하부 복수의 구멍들을 정의한다. 하부 구멍들 각각은 증착 배출구들 중 하나와 유체적으로 결합된다. A semiconductor processing system includes a remote plasma source (RPS), a faceplate, and an output manifold positioned between the RPS and the faceplate. The output manifold is characterized by a plurality of purge outlets that are fluidly coupled with a purge gas source and a plurality of deposition outlets that are fluidly coupled with a deposition gas source. A delivery tube extends between and fluidly couples the RPS and the faceplate. The delivery tube is characterized by a generally cylindrical sidewall that defines an upper plurality of apertures that are arranged in a radial pattern. Each of the upper apertures is fluidly coupled with one of the purge outlets. The generally cylindrical sidewall defines a lower plurality of apertures that are arranged in a radial pattern and below the upper plurality of apertures. Each of the lower apertures is fluidly coupled with one of the deposition outlets.