Methods for training a semiconductor process image generator

• Main Authors: LEE HYEOK, YEO SANG CHUL, LEE SOO RYONG, YANG JAE WON
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 13.06.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CINEMATOGRAPHY; COMPUTER SYSTEMS BASED ON SPECIFIC COMPUTATIONAL MODELS; COMPUTING; COUNTING; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Disclosed is a method for training a semiconductor process image generator. The method may comprise: a step of training a semiconductor process image generator using a plurality of mask images comprising a first group and a second group; a step of training the semiconductor process image generator using a first transformed group and the second group obtained by applying a transformation to the first group; and a step of training the semiconductor process image generator using a second transformed group and the first group obtained by applying the transformation to the second group. Therefore, the present invention can enable training to be performed within a short period of time. 반도체 공정 이미지 생성기를 훈련시키는 방법이 개시된다. 이 방법은 제1 그룹 및 제2 그룹을 포함하는 복수의 마스크 이미지를 이용해 반도체 공정 이미지 생성기를 훈련시키는 단계, 상기 제1 그룹에 변환을 적용함으로써 얻어진 제1 변환된 그룹 및 상기 제2 그룹을 이용해 상기 반도체 공정 이미지 생성기를 훈련시키는 단계, 및 상기 제2 그룹에 상기 변환을 적용함으로써 얻어진 제2 변환된 그룹 및 상기 제1 그룹을 이용해 상기 반도체 공정 이미지 생성기를 훈련시키는 단계를 포함할 수 있다.