정전 척을 위한 전력 공급 신호 컨디셔닝

예시적인 반도체 프로세싱 시스템들은 프로세싱 챔버, 및 프로세싱 챔버 내에 적어도 부분적으로 배치된 정전 척을 포함할 수 있다. 정전 척은 적어도 하나의 전극 및 히터를 포함할 수 있다. 반도체 프로세싱 시스템은 기판을 정전 척에 고정하기 위한 정전기력을 제공하도록 전극에 신호를 제공하기 위한 전력 공급부를 포함할 수 있다. 시스템은 또한 전력 공급부와 전극 사이에 통신가능하게 커플링된 필터를 포함할 수 있다. 필터는 기판에 대한 정전기력이 유지되는 동안 히터를 동작시킴으로써 척킹 신호에 유입되는 잡음을 제거하거나 감소시키도록 구성...

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Main Authors DZILNO DMITRY A, ROCHA ALVAREZ JUAN CARLOS, KAMATH SANJAY G, ENSLOW KRISTOPHER R, RAJ DAEMIAN RAJ BENJAMIN, KESHRI ABHIGYAN, HOWLADER RANA, SRIVASTAVA SHAILENDRA, HAMMOND EDWARD P, PADHI DEENESH, YE ZHENG JOHN, HAN XINHAI
Format Patent
LanguageKorean
Published 31.05.2023
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Summary:예시적인 반도체 프로세싱 시스템들은 프로세싱 챔버, 및 프로세싱 챔버 내에 적어도 부분적으로 배치된 정전 척을 포함할 수 있다. 정전 척은 적어도 하나의 전극 및 히터를 포함할 수 있다. 반도체 프로세싱 시스템은 기판을 정전 척에 고정하기 위한 정전기력을 제공하도록 전극에 신호를 제공하기 위한 전력 공급부를 포함할 수 있다. 시스템은 또한 전력 공급부와 전극 사이에 통신가능하게 커플링된 필터를 포함할 수 있다. 필터는 기판에 대한 정전기력이 유지되는 동안 히터를 동작시킴으로써 척킹 신호에 유입되는 잡음을 제거하거나 감소시키도록 구성된다. 필터는 능동 회로부, 수동 회로부, 또는 둘 다를 포함할 수 있고, 필터로부터의 출력 신호 레벨이 필터에 대한 입력 신호 레벨에 대응하도록 필터의 이득을 세팅하는 조정 회로를 포함할 수 있다. Exemplary semiconductor processing systems may include a processing chamber and an electrostatic chuck disposed at least partially within the processing chamber. The electrostatic chuck may include at least one electrode and a heater. A semiconductor processing system may include a power supply to provide a signal to the electrode to provide electrostatic force to secure a substrate to the electrostatic chuck. The system may also include a filter communicatively coupled between the power supply and the electrode. The filter is configured to remove or reduce noise introduced into the chucking signal by operating the heater while the electrostatic force on the substrate is maintained. The filter may include active circuitry, passive circuitry, or both, and may include an adjustment circuit to set the gain of the filter so that an output signal level from the filter corresponds to an input signal level for the filter.
Bibliography:Application Number: KR20237014035