FAULT DETECTION USING SHOWERHEAD VOLTAGE VARIATION
Provided are methods and systems for detecting processing conditions of a plasma processing system. One of the methods of the present invention comprises the steps of: providing a radio frequency (RF) power from an RF power supply unit to a showerhead of a plasma processing system; and executing a p...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
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24.04.2023
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Abstract | Provided are methods and systems for detecting processing conditions of a plasma processing system. One of the methods of the present invention comprises the steps of: providing a radio frequency (RF) power from an RF power supply unit to a showerhead of a plasma processing system; and executing a process operation on a substrate disposed in the plasma processing system. The method further comprises a step of sensing voltage of the showerhead using a voltage probe connected between the RF power supply unit and the showerhead in an in-line manner. The sensing of voltage generates voltage values during the execution of the process operation. Also, the method further comprises a step of comparing the voltage values with a predefined voltage check band for the process operation to be executed. The comparison step performs detection when the voltage values are out of the voltage check band. In addition, the method further comprises a step of generating an alert when the comparison step detects when the voltage values are out of the voltage check band. Also, the alert also identifies a type of a fault on the basis of the voltage check band predefined for the process operation.
플라즈마 프로세싱 시스템의 프로세싱 조건들을 검출하기 위한 방법들 및 시스템들이 제공된다. 일 방법은 RF (radio frequency) 전력 공급부로부터의 RF 전력을 플라즈마 프로세싱 시스템의 샤워헤드에 제공하는 단계 및 플라즈마 프로세싱 시스템 내에 배치된 기판 상에서 프로세스 동작을 실행하는 단계를 포함한다. 방법은 RF 전력 공급부와 샤워헤드 사이에 인라인으로 연결된 전압 프로브를 사용하여 샤워헤드의 전압을 센싱하는 단계를 더 포함한다. 전압의 센싱은 프로세스 동작의 실행 동안 전압 값들을 생성한다. 방법은 실행될 프로세스 동작을 위해 미리 규정된 전압 체크 밴드와 전압 값들을 비교하는 단계를 포함한다. 비교 단계는 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 검출하도록 구성된다. 방법은 또한 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 비교 단계가 검출할 때 경보를 생성하는 단계를 포함한다. 경보는 프로세스 동작을 위해 미리 규정되었던 전압 체크 밴드에 기초하여 결함의 타입을 식별하도록 더 구성된다. |
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AbstractList | Provided are methods and systems for detecting processing conditions of a plasma processing system. One of the methods of the present invention comprises the steps of: providing a radio frequency (RF) power from an RF power supply unit to a showerhead of a plasma processing system; and executing a process operation on a substrate disposed in the plasma processing system. The method further comprises a step of sensing voltage of the showerhead using a voltage probe connected between the RF power supply unit and the showerhead in an in-line manner. The sensing of voltage generates voltage values during the execution of the process operation. Also, the method further comprises a step of comparing the voltage values with a predefined voltage check band for the process operation to be executed. The comparison step performs detection when the voltage values are out of the voltage check band. In addition, the method further comprises a step of generating an alert when the comparison step detects when the voltage values are out of the voltage check band. Also, the alert also identifies a type of a fault on the basis of the voltage check band predefined for the process operation.
플라즈마 프로세싱 시스템의 프로세싱 조건들을 검출하기 위한 방법들 및 시스템들이 제공된다. 일 방법은 RF (radio frequency) 전력 공급부로부터의 RF 전력을 플라즈마 프로세싱 시스템의 샤워헤드에 제공하는 단계 및 플라즈마 프로세싱 시스템 내에 배치된 기판 상에서 프로세스 동작을 실행하는 단계를 포함한다. 방법은 RF 전력 공급부와 샤워헤드 사이에 인라인으로 연결된 전압 프로브를 사용하여 샤워헤드의 전압을 센싱하는 단계를 더 포함한다. 전압의 센싱은 프로세스 동작의 실행 동안 전압 값들을 생성한다. 방법은 실행될 프로세스 동작을 위해 미리 규정된 전압 체크 밴드와 전압 값들을 비교하는 단계를 포함한다. 비교 단계는 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 검출하도록 구성된다. 방법은 또한 전압 값들이 전압 체크 밴드의 외부에 있을 때를 비교 단계가 검출할 때 경보를 생성하는 단계를 포함한다. 경보는 프로세스 동작을 위해 미리 규정되었던 전압 체크 밴드에 기초하여 결함의 타입을 식별하도록 더 구성된다. |
Author | RANGINENI YASWANTH BINGHAM AARON NGUYEN TUAN KAPOOR SUNIL |
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