리소그래피 생산 공정에서의 사용을 위한 열 민감성 요소 및 디바이스의 열-기계적 제어를 위한 방법

• Main Authors: SCHNEIDERS MAURITIUS GERARDUS ELISABETH, VAN BERKEL KOOS, DOLK VICTOR SEBASTIAAN
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 07.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 열 부하를 받는 열 민감성 요소(MI)의 열-기계적 제어를 위한 방법을 제공하며, 본 방법은 열 민감성 요소의 열 부하와 변형의 특성들 간의 동적 관계를 설명하는 열 민감성 요소의 비선형 열-기계적 모델을 제공하는 것; 비선형 모델의 최적화 계산에 근거하여 제어 신호를 계산하는 것; 작동 신호 -작동 신호는 적어도 부분적으로 제어 신호를 기반으로 함-를 히터(HE)에 제공하는 것; 작동 신호에 근거하여 히터에 의하여 열 민감성 요소를 가열하는 것을 포함한다. The invention provides a method for thermo-mechanical control of a heat sensitive element (MI) subject to a heat load, comprising: -providing a non-linear thermo-mechanical model of the heat sensitive element describing a dynamical relationship between characteristics of the heat load and deformation of the heat sensitive element; -calculating a control signal on the basis of an optimization calculation of the non-linear model, -providing an actuation signal to a heater (HE), wherein the actuation signal is at least partially based on the control signal, -heating the heat sensitive element by the heater on the basis of the actuation signal.