유기 오염 없는 표면 기계가공

• Main Authors: MURAYAMA YUJI, HUDGENS JEFFREY C, RADKO MAREK W, MADIWAL NAGENDRA, SANSONI STEVEN VICTOR, GUO YUANHONG, GUO SHENG MICHAEL, BANSAL ANURAG, FARBER MATVEY, SUH SONG MOON, GOU PINGPING, CHEN SHAOFENG, KUCHAR MICHAEL
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 12.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; CLEANING; CLEANING IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MACHINE TOOLS; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; METALLURGY; MILLING; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLICMATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASSC23 AND AT LEAST ONEPROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25; NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

방법은, 금속 베이스, 금속 베이스 상에 배치된 제1 자연 산화물, 및 금속 베이스 상에 배치된 탄화수소들을 포함하는 미가공 표면을 포함하는 금속 컴포넌트를 수용하는 단계를 포함한다. 방법은 금속 컴포넌트의 미가공 표면을 기계가공하여 금속 베이스로부터 제1 자연 산화물 및 탄화수소들의 제1 부분을 제거하는 단계를 더 포함한다. 기계가공은 제1 자연 산화물 없는 그리고 탄화수소들의 제1 부분이 없는 금속 베이스를 포함하는 금속 컴포넌트의 기계가공된 그대로의 표면을 생성한다. 방법은 탄화수소들의 제2 부분을 제거하기 위해 금속 컴포넌트...