전자원, 전자총, 및 하전 입자선 장치

• Main Authors: DOI TAKASHI, MORITA HIROSHI, MATSUNAGA SOICHIRO, KOMESU DAIGO, TANIMOTO KENJI, ISHIKAWA SHUHEI, MIYATA KENJI, KASUYA KEIGO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 09.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

중심축을 따른 방향에 있어서의 한쪽의 단부에 개구부를 갖는 서프레서 전극과, 개구부로부터 선단이 돌출한 전자 방출재를 구비하는 전자원에 있어서, 서프레서 전극은, 개구부보다도 외주 방향의 위치에, 중심축을 따른 방향에 있어서 개구부보다도 전자 방출재의 선단으로부터 멀어지는 위치로 후퇴한 후퇴부를 더 구비하고, 후퇴부의 적어도 일부는 개구부의 중심으로부터 직경 2810㎛ 이내에 배치된다는 등의 구조를 구비한다. 이에 의해, 전자 방출재와 서프레서 전극의 축 어긋남에 의한 장치 성능의 기차를 저감한 전자원, 전자총, 및 그것을 사용한 전자 현미경 등의 하전 입자선 장치가 실현된다. In an electron source including a suppressor electrode having an opening at one end portion thereof in a direction along a central axis and an electron emission material having a distal end protruding from the opening, the suppressor electrode further includes a receding portion receding to a position farther from the distal end of the electron emission material than the opening in the direction along the central axis at a position in an outer peripheral direction than the opening, and at least a part of the receding portion is disposed within a diameter of 2810 μm from a center of the opening. Accordingly, an electron source, an electron gun, and a charged particle beam device such as an electron microscope using the same, in which a machine difference in a device performance due to an axial shift between the electron emission material and the suppressor electrode is reduced, are implemented.