사전세정 챔버들 내의 결함들을 감소시키기 위한 방법들 및 장치

• Main Authors: WADA YUICHI, TEO KOK SEONG, JUPUDI ANANTHKRISHNA, OW YUEH SHENG, WEI JUNQI, ZHANG KANG, BABU SARATH, TAN KOK WEI
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 06.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

장치 및 방법들은 프로세스 챔버의 프로세싱 볼륨을 보호하기 위해 고유한 프로세스 키트를 사용한다. 프로세스 키트는 차폐부를 포함하고, 차폐부는, 차폐부 내로 삽입가능하도록 구성된 프레임 및 특정 지점들에서 프레임에 부착가능한 금속성 재료로 구성된 포일 라이너를 갖는다. 특정 부착 지점들은 금속성 재료의 전성에 기반하여 일정 양의 가요성을 생성하도록 이격된다. 가요성의 양은 대략 2.5 내지 대략 4.5의 범위이다. Apparatus and methods use a unique process kit to protect a processing volume of a process chamber. The process kit includes a shield with a frame configured to be insertable into a shield and a foil liner composed of a metallic material that is attachable to the frame at specific points. The specific attachment points are spaced apart to produce an amount of flexibility based on a malleability of the metallic material. The amount of flexibility ranges from approximately 2.5 to approximately 4.5.