POLYIMIDE RESIN COMPOSITION RESIN FILM LAMINATE COVERLAY FILM COPPER FOIL WITH RESIN METAL-CLAD LAMINATE PLATE AND CIRCUIT BOARD

The present invention is to provide polyimide which uses dimer diamine as a raw material and enables formation of a resin film having both low dielectric loss tangent and excellent adhesion. The polyimide contains: 40 mol% or more and 95 mol% or less of a diamine residue derived from a dimer diamine...

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Main Authors NAKAJIMA YOSHITO, SUTO YOSHIKI
Format Patent
LanguageEnglish
Korean
Published 05.10.2022
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Summary:The present invention is to provide polyimide which uses dimer diamine as a raw material and enables formation of a resin film having both low dielectric loss tangent and excellent adhesion. The polyimide contains: 40 mol% or more and 95 mol% or less of a diamine residue derived from a dimer diamine composition containing dimer diamine, which is obtained by substituting a primary aminomethyl group or an amino group for each of two terminal carboxylic acid groups of a dimer acid, as a main component with respect to the total of diamine residues; and 5 mol% or more and 25 mol% or less of a diamine residue that is derived from a diamine compound, which contains a biphenyl skeleton or a naphthalene skeleton, wherein the biphenyl skeleton or the naphthalene skeleton has a substituent having at least one or more inter-carbon double bonds selected from the group consisting of a vinyl group, an acrylic group, a methacrylic group and an allyl group. (과제) 본 발명은, 다이머디아민을 원료로서 사용하고, 낮은 유전정접과 우수한 접착성을 겸비한 수지필름을 형성할 수 있는 폴리이미드를 제공하는 것이다. (해결수단) 전체 디아민 잔기에 대하여, 다이머산의 2개의 말단 카르복시산기가 1급 아미노메틸기 또는 아미노기로 치환되어 이루어지는 다이머디아민을 주성분으로 하는 다이머디아민 조성물에서 유래하는 디아민 잔기를 40몰% 이상 95몰% 이하의 범위 내에서 함유함과 아울러, 비페닐 골격 또는 나프탈렌 골격을 포함하고, 상기 비페닐 골격 또는 상기 나프탈렌 골격이 비닐기, 아크릴기, 메타크릴기 및 알릴기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종 이상의 탄소간 이중결합을 구비하는 치환기를 구비하고 있는 디아민 화합물로부터 유도되는 디아민 잔기를 5몰% 이상 25몰% 이하의 범위 내에서 함유하는 폴리이미드.
Bibliography:Application Number: KR20220037224