PROCESS WINDOW BASED ON DEFECT PROBABILITY

• Main Authors: VAN INGEN SCHENAU KOENRAAD, HUNSCHE STEFAN, RISPENS GIJSBERT, PETERSON BRENNAN, TEL WIM TJIBBO, SLACHTER ABRAHAM, VAN OOSTEN ANTON BERNHARD
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.09.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

방법이 본원에서 설명된다. 방법은 (i) 특징부의 파라미터의 측정들, (ii) 패턴화 프로세스의 프로세스 변수에 관련된 데이터, (iii) 파라미터의 측정들 및 프로세스 변수에 관련된 데이터에 기초하여 프로세스 변수의 함수로서 정의된 파라미터의 함수 거동, (iv) 특징부의 실패율의 측정들, 및 (v) 프로세스 변수의 설정에 대한 프로세스 변수의 확률 밀도 함수를 획득하기 위한 단계, 변환 함수에 기초하여, 프로세스 변수의 확률 밀도 함수를 파라미터의 확률 밀도 함수로 변환하기 위한 단계 - 변환 함수는 프로세스 변수의 함수에 기초...