PROCESS WINDOW BASED ON DEFECT PROBABILITY

• Main Authors: VAN INGEN SCHENAU KOENRAAD, HUNSCHE STEFAN, RISPENS GIJSBERT, PETERSON BRENNAN, TEL WIM TJIBBO, SLACHTER ABRAHAM, VAN OOSTEN ANTON BERNHARD
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 14.09.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

방법이 본원에서 설명된다. 방법은 (i) 특징부의 파라미터의 측정들, (ii) 패턴화 프로세스의 프로세스 변수에 관련된 데이터, (iii) 파라미터의 측정들 및 프로세스 변수에 관련된 데이터에 기초하여 프로세스 변수의 함수로서 정의된 파라미터의 함수 거동, (iv) 특징부의 실패율의 측정들, 및 (v) 프로세스 변수의 설정에 대한 프로세스 변수의 확률 밀도 함수를 획득하기 위한 단계, 변환 함수에 기초하여, 프로세스 변수의 확률 밀도 함수를 파라미터의 확률 밀도 함수로 변환하기 위한 단계 - 변환 함수는 프로세스 변수의 함수에 기초하여 결정됨 -, 및 파라미터의 확률 밀도 함수 및 실패율의 측정들에 기초하여 파라미터의 파라미터 제한을 결정하기 위한 단계를 포함한다. A method including obtaining (i) measurements of a parameter of the feature, (ii) data related to a process variable of a patterning process, (iii) a functional behavior of the parameter defined as a function of the process variable based on the measurements of the parameter and the data related to the process variable, (iv) measurements of a failure rate of the feature, and (v) a probability density function of the process variable for a setting of the process variable, converting the probability density function of the process variable to a probability density function of the parameter based on a conversion function, where the conversion function is determined based on the function of the process variable, and determining a parameter limit of the parameter based on the probability density function of the parameter and the measurements of the failure rate.