APPARATUSE FOR TREATING SUBSTRATE

• Main Authors: LEE JUNG YUL, JUNG SUN WOOK, EUM KI SANG, RYU YANG YEOL
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 02.06.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

본 발명은 내부 공간을 가지는 처리 용기와; 상기 내부 공간 내에서 기판을 지지 및 회전시키는 지지판을 가지는 지지 유닛과; 상기 지지 유닛에 지지된 기판으로 처리액을 공급하는 액 공급 유닛과; 그리고 상기 내부 공간 내 기류를 배기하는 배기 유닛을 포함하되, 상기 배기 유닛은, 상기 지지판에 지지된 기판의 회전에 의해 상기 기판 상에서 상기 기판의 외측으로 흐르는 기류의 흐름 방향을 안내하는 기류 안내 덕트를 가지며,상기 기류 안내 덕트에서 상기 기류를 유입하는 입구는 상기 지지판에 지지된 기판과 동일 또는 인접한 높이에 제공되는 기판 처리 장치에 관한 것이다. An apparatus for treating a substrate includes a processing container having an inner space; a support unit having a support plate configured to support and rotate the substrate in the inner space; a liquid supply unit configured to supply treating liquid to the substrate supported by the support unit; and an exhaust unit configured to exhaust an air flow in the inner space, wherein the exhaust unit includes an air flow guide duct guiding a flow direction of an air flow flowing on the substrate to an outer side of the substrate due to a rotation of the substrate supported by the support unit, and the air flow guide duct having an inlet into which an air flow is introduced, the inlet provided at a substantially same level with the substrate supported by the support unit.