광학 요소의 지지

• Main Authors: ANSELM EUGEN, MUELLER CHRISTOPH, FENKL KARL, MOSER RALF
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.10.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

본 발명은 광학 요소(109) 및 광학 요소(109)를 유지하기 위한 유지 디바이스(110)를 포함하는, 특히 극자외선(EUV) 범위의 광을 사용하기 위한 마이크로리소그래피용 이미징 디바이스의 광학 장치에 관한 것이다. 광학 요소(109)는 광학 표면(109.1)을 포함하고 주 연장 평면을 정의하며, 주 연장 평면에서 광학 요소(109)는 반경방향 및 원주방향을 정의한다. 유지 디바이스(110)는 베이스 요소(110.1) 및 3개 초과의 별개의 유지 유닛(110.2)을 포함하며, 유지 유닛(110.2)은 베이스 요소(110.1)에...