캐비티에 걸쳐 있는 멤브레인을 포함하는 장치를 제작하는 방법

• Main Author: GHYSELEN BRUNO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 25.08.2021
• Subjects: MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY; PERFORMING OPERATIONS; PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS; TRANSPORTING

본 발명은 유용한 캐비티에 걸쳐 있는(extending over) 멤브레인을 포함하는 장치를 제작하는 방법에 관한 것으로, 방법은, ㆍ 주 평면에서 연장되고 캐리어 기판의 제 1 면 상에 배열되는 표면층을 포함하는 일반 구조를 제공하는 것으로서, 상기 캐리어 기판은 표면층 아래에 개방되는 기본 캐비티 및 각 기본 캐비티의 한계를 정하는 파티션들을 포함하며, 상기 파티션들은 캐리어 기판의 제 1 면의 전부 또는 일부를 형성하는 상부 표면들을 갖는, 상기 제공하는 단계; ㆍ 인접한 기본 캐비티들의 그룹을 정의함으로써 상기 기본 캐비티들의 그룹의 윤곽이, 상기 주 평면에서, 유용한 캐비티의 윤곽에 대응하도록 하는 단계; ㆍ 유용한 캐비티를 형성하기 위해, 그리고 상기 유용한 캐비티 위에 배열되는 표면층을 해방(free)하기 위해, 기본 캐비티들의 그룹의 윤곽 내부에 위치되는 파티션들을 제거하고, 상기 멤브레인을 형성하는 단계;를 포함한다. A method for manufacturing a device comprising a membrane extending over a useful cavity, the method comprising: providing a generic structure comprising a surface layer extending in a main plane and arranged on a first face of a support substrate, the support substrate comprising elementary cavities opening under the surface layer and partitions delimiting each elementary cavity, the partitions having top surfaces that form all or part of the first face of the support substrate; defining a group of adjacent elementary cavities, such that a contour of the group of elementary cavities corresponds, in the main plane, to a contour of the useful cavity; and removing the partitions situated within the contour of the group of elementary cavities, in order to form the useful cavity, and to free the surface layer arranged above the useful cavity and forming the membrane.