경화성 조성물, 막, 근적외선 차단 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 적외선 센서 및 카메라 모듈

• Main Authors: SAMEJIMA SUGURU, MATSUMURA TOKIHIKO
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 27.01.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; USE OF INORGANIC OR NON-MACROMOLECULAR ORGANIC SUBSTANCES ASCOMPOUNDING INGREDIENTS

식 (1) 또는 식 (2)로 나타나는 화합물과, 경화성 화합물과, 용제를 포함하는 경화성 조성물에 관한 것이다. 상술한 경화성 조성물을 이용한 막, 근적외선 차단 필터, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 적외선 센서 및 카메라 모듈. 식 중, X1~X5는 각각 독립적으로, O, S 또는 다이사이아노메틸렌기를 나타내고, R1~R5는, 각각 독립적으로 식 (R2)로 나타나는 기 등을 나타내며, R1 및 R2 중 적어도 일방이 식 (R2)로 나타나는 기이고, R3 및 R4 중 적어도 일방이 식 (R2)로 나타나는 기이다. JPEGpct...