마크로보이드들을 갖는 이소포러스 메조포러스 비대칭 블록 코폴리머 재료들 및 이의 제조 방법
메조포러스 이소포러스 비대칭 재료는 적어도 하나의 디블록 또는 멀티블록 코폴리머를 포함하며, 상기 재료는 적어도 300 nm의 두께 및 낮은 마크로보이드 밀도를 갖는 전이층을 갖고, 상기 재료는 상기 전이층에 인접한 하부 구조를 갖고, 상기 하부 구조는 높은 마이크로보이드 밀도를 포함한다. 마크로보이드들을 갖는 메조포러스 이소포러스 비대칭 재료들을 제조하는 방법은, 적어도 하나의 디블록 또는 멀티블록 코폴리머를 용액에 용해시켜 폴리머 용액을 형성하는 단계로서, 상기 용액은 하나 이상의 용매들 및 하나 이상의 비용매들을 갖는 단계;...
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Format | Patent |
Language | Korean |
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18.11.2020
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Summary: | 메조포러스 이소포러스 비대칭 재료는 적어도 하나의 디블록 또는 멀티블록 코폴리머를 포함하며, 상기 재료는 적어도 300 nm의 두께 및 낮은 마크로보이드 밀도를 갖는 전이층을 갖고, 상기 재료는 상기 전이층에 인접한 하부 구조를 갖고, 상기 하부 구조는 높은 마이크로보이드 밀도를 포함한다. 마크로보이드들을 갖는 메조포러스 이소포러스 비대칭 재료들을 제조하는 방법은, 적어도 하나의 디블록 또는 멀티블록 코폴리머를 용액에 용해시켜 폴리머 용액을 형성하는 단계로서, 상기 용액은 하나 이상의 용매들 및 하나 이상의 비용매들을 갖는 단계; 상기 폴리머 용액을 기판 또는 몰드 상으로, 또는 다이 또는 템플릿을 통해 분배하는 단계; 상기 폴리머 용액으로부터 용매 및/또는 비용매의 적어도 일부를 제거하여 농축된 폴리머 용액을 형성하는 단계; 및 상기 농축된 폴리머 용액을 비용매에 노출시켜 상기 농축된 폴리머 용액으로부터 폴리머의 적어도 일부를 침전시키는 단계를 포함할 수 있다.
A mesoporous isoporous asymmetric material includes at least one diblock or multiblock copolymer, wherein the material has a transition layer having a thickness of at least 300 nm and a low macrovoid density, and the material has a sub-structure adjacent to said transition layer and said sub-structure comprises a high macrovoid density. A method for producing mesoporous isoporous asymmetric materials having macrovoids can include: dissolving at least one diblock or multiblock copolymer in a solution, the solution having one or more solvents and one or more nonsolvents, to form a polymer solution; dispensing the polymer solution onto a substrate or mold, or through a die or template; removing at least a portion of solvent and/or nonsolvent from the polymer solution to form a concentrated polymer solution; and exposing the concentrated polymer solution to a nonsolvent causing precipitation of at least a portion of the polymer from the concentrated polymer solution. |
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Bibliography: | Application Number: KR20207028787 |