A baffle and an apparatus for treating a substrate with the baffle
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 기판 처리 장치는 반응실 및 상기 반응실의 상부에 제공된 플라즈마 발생실을 가지는 공정 챔버; 상기 반응실 내에 배치되며, 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 공급된 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 소스; 상기 반응실과 상기 플라즈마 발생실 사이에 위치되며, 상기 플라즈마 발생실에서 발생된 플라즈마를 상기 반응실로 공급하도록 제공되는 복수의 분사 홀이 형성된 배플 유닛을 구비하되, 상기 배플 유닛은,...
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| Main Authors | , , , , |
|---|---|
| Format | Patent |
| Language | English Korean |
| Published |
09.11.2020
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| Abstract | 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 기판 처리 장치는 반응실 및 상기 반응실의 상부에 제공된 플라즈마 발생실을 가지는 공정 챔버; 상기 반응실 내에 배치되며, 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 공급된 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 소스; 상기 반응실과 상기 플라즈마 발생실 사이에 위치되며, 상기 플라즈마 발생실에서 발생된 플라즈마를 상기 반응실로 공급하도록 제공되는 복수의 분사 홀이 형성된 배플 유닛을 구비하되, 상기 배플 유닛은, 상기 분사 홀이 형성된 분사 판; 상기 분사 판의 둘레에 위치되며 상기 분사 판이 결합되는, 그리고 상기 공정 챔버에 고정되는 고정 링; 및 상기 분사 판이 상기 고정 링과 직접 접촉되지 않도록 상기 분사 판과 상기 고정 링 사이에 제공되는 스크래치 방지구들을 포함할 수 있다. |
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| AbstractList | 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 기판 처리 장치는 반응실 및 상기 반응실의 상부에 제공된 플라즈마 발생실을 가지는 공정 챔버; 상기 반응실 내에 배치되며, 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 상기 플라즈마 발생실로 공급된 가스로부터 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 소스; 상기 반응실과 상기 플라즈마 발생실 사이에 위치되며, 상기 플라즈마 발생실에서 발생된 플라즈마를 상기 반응실로 공급하도록 제공되는 복수의 분사 홀이 형성된 배플 유닛을 구비하되, 상기 배플 유닛은, 상기 분사 홀이 형성된 분사 판; 상기 분사 판의 둘레에 위치되며 상기 분사 판이 결합되는, 그리고 상기 공정 챔버에 고정되는 고정 링; 및 상기 분사 판이 상기 고정 링과 직접 접촉되지 않도록 상기 분사 판과 상기 고정 링 사이에 제공되는 스크래치 방지구들을 포함할 수 있다. |
| Author | CHOI JIHYUN SIM KWANG BO YOON JIHOON TRAN THI VAN NHI KANG GA RAM |
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| SubjectTerms | BASIC ELECTRIC ELEMENTS ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ELECTRICITY SEMICONDUCTOR DEVICES |
| Title | A baffle and an apparatus for treating a substrate with the baffle |
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