반도체 공정들 및 장비를 위한 자기 유도 플라즈마 소스

• Main Authors: KOBAYASHI SATORU, LUBOMIRSKY DMITRY, PARK SOONAM, JUNG SOONWOOK, SCHATZ KENNETH D, CHO TAE SEUNG, KIM JUNGHOON
• Format: Patent
• Language: Korean
• Published: 14.10.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

플라즈마 생성물들을 생성하기 위한 예시적인 자기 유도 플라즈마 시스템들이 제공된다. 자기 유도 플라즈마 시스템은, 복수의 제1 구획들 및 복수의 제2 구획들을 포함하는 제1 플라즈마 소스를 포함할 수 있으며, 그 구획들은, 제1 플라즈마 소스 내부에 생성되는 플라즈마 생성물들의 적어도 일부분이 제1 플라즈마 소스 내부에서 복수의 제1 구획들 중 적어도 하나 및 복수의 제2 구획들 중 적어도 하나를 통해 순환할 수 있도록 교번하는 방식으로 배열되고 서로 유체유동적으로 결합된다. 복수의 제2 구획들 각각은 유전체 물질을 포함할 수 있다. 시스템은 복수의 제1 자기 요소들을 더 포함할 수 있으며, 이들 각각은 폐쇄 루프를 정의할 수 있다. 복수의 제2 구획들 각각은, 내부에 복수의 제1 자기 요소들 중 하나를 수용하기 위한 복수의 함몰부들을 정의할 수 있다. Exemplary magnetic induction plasma systems for generating plasma products are provided. The magnetic induction plasma system may include a first plasma source including a plurality of first sections and a plurality of second sections arranged in an alternating manner and fluidly coupled with each other such that at least a portion of plasma products generated inside the first plasma source may circulate through at least one of the plurality of first sections and at least one of the plurality of second sections inside the first plasma source. Each of the plurality of second sections may include a dielectric material. The system may further include a plurality of first magnetic elements each of which may define a closed loop. Each of the plurality of second sections may define a plurality of recesses for receiving one of the plurality of first magnetic elements therein.