CLEANING APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR COMPONENTS
본 발명은 세정챔버 내에 공급되는 세정액의 유동이 와류방식으로 개선되어 오염물질의 배출이 원활히 이루어져서 반도체 부품의 세정효율을 높일 수 있도록 하는 반도체 부품용 세정장치에 관한 것으로, 세정액과 세정대상인 반도체 부품이 수용되는 내조; 상기 내조의 외측에 설치되고, 상기 내조에서의 세정액을 순환시키는 역할을 하는 외조; 상기 내조 내에서 상기 반도체 부품의 측면에 배치되어 상기 반도체 부품의 주위에 와류를 형성하는 한 쌍의 분사판; 및 상기 내조의 하측에 배치되어 고압의 세정액을 분사하는 고압분사부를 포함하여 구성된다....
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| Main Author | |
|---|---|
| Format | Patent |
| Language | English Korean |
| Published |
10.07.2020
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| Abstract | 본 발명은 세정챔버 내에 공급되는 세정액의 유동이 와류방식으로 개선되어 오염물질의 배출이 원활히 이루어져서 반도체 부품의 세정효율을 높일 수 있도록 하는 반도체 부품용 세정장치에 관한 것으로, 세정액과 세정대상인 반도체 부품이 수용되는 내조; 상기 내조의 외측에 설치되고, 상기 내조에서의 세정액을 순환시키는 역할을 하는 외조; 상기 내조 내에서 상기 반도체 부품의 측면에 배치되어 상기 반도체 부품의 주위에 와류를 형성하는 한 쌍의 분사판; 및 상기 내조의 하측에 배치되어 고압의 세정액을 분사하는 고압분사부를 포함하여 구성된다. |
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| AbstractList | 본 발명은 세정챔버 내에 공급되는 세정액의 유동이 와류방식으로 개선되어 오염물질의 배출이 원활히 이루어져서 반도체 부품의 세정효율을 높일 수 있도록 하는 반도체 부품용 세정장치에 관한 것으로, 세정액과 세정대상인 반도체 부품이 수용되는 내조; 상기 내조의 외측에 설치되고, 상기 내조에서의 세정액을 순환시키는 역할을 하는 외조; 상기 내조 내에서 상기 반도체 부품의 측면에 배치되어 상기 반도체 부품의 주위에 와류를 형성하는 한 쌍의 분사판; 및 상기 내조의 하측에 배치되어 고압의 세정액을 분사하는 고압분사부를 포함하여 구성된다. |
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