Plasma generator cleaning liquid processing apparatus semiconductor cleaning apparatus and cleaning liquid processing method

• Main Authors: YOO BEOM JIN, HAN KYU HEE, SIQING LU, JANG WON HYUK, KIM MIN HYOUNG, NAM SANG KI
• Format: Patent
• Language: English; Korean
• Published: 22.01.2020
• Subjects: CHEMISTRY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; METALLURGY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE

Provided are a plasma generator, a washing water treatment apparatus including the same, a semiconductor washing device and a washing water treatment method The washing water treatment apparatus comprises: a bubble forming unit for lowering the pressure of a mixed liquid mixed with liquid and gas to form bubbles; a plasma generator connected to the bubble forming unit, and applying a voltage to the mixed liquid to form a bubble liquid plasma; a mixing unit connected to the plasma generator and dissolving radicals in the bubble liquid plasma in the mixed liquid; and a discharge nozzle connected to the mixing unit and discharging the mixed liquid to a wafer. 플라즈마 제네레이터, 이를 포함하는 세정수 처리 장치, 반도체 세정 장치 및 세정수 처리 방법이 제공된다. 상기 세정수 처리 장치는 액체와 가스가 혼합된 혼합액의 압력을 낮춰 버블을 형성하는 버블 형성부, 상기 버블 형성부에서 연결되고, 상기 혼합액에 전압을 가해서 버블 리퀴드 플라즈마(bubble liquid plasma)를 형성하는 플라즈마 제네레이터, 상기 플라즈마 제네레이터에서 연결되고, 상기 버블 리퀴드 플라즈마 내의 라디칼을 상기 혼합액에 용해시키는 믹싱부 및 상기 믹싱부와 연결되고, 상기 혼합액을 웨이퍼로 토출하는 토출 노즐을 포함한다.