A FLUID HANDLING STRUCTURE A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
구역에 침지 유체를 포함하도록 구성되는 리소그래피 장치용 유체 핸들링 구조체가 개시되며, 유체 핸들링 구조체는 공간의 경계에서: 공간의 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 나이프 개구부; 및 공간에 대해 적어도 하나의 가스 나이프 개구부로부터 반경방향 바깥쪽 방향의 적어도 하나의 가스 공급 개구부를 갖는다. 가스 나이프 개구부 및 가스 공급 개구부는 둘 다 공간에 인접하여, 및 공간의 반경방향 바깥쪽에 실질적으로 순수한 CO가스 환경을 제공하기 위해 실질적으로 순수한 CO가스를 제공한다. A fluid handling str...
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Format | Patent |
Language | English Korean |
Published |
10.12.2019
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